- 新材料半导体废气 -

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  随着科技的发展，目前市场上新材料行业与传统材料相比，其应用范围更广了，新材料产业的研究与开发投入高，产品的附加值高在生产与市场的国际性强，而且新材料半导体行业的发展前景好。而新材料半导体行业在加工的过程中采用清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂，这些溶剂中含有大量的有机物成分，在整个工艺加工的过程中将会有部分的有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放，这部分挥发的废气主要成分为具有挥发性的VOCs，下面讲解一下关于：新材料半导体行业的废气应该怎么处理。

-  新材料半导体废气处理工艺流程 -

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  新材料半导体行业的废气除了含有VOCs以外，还混有HCl、氨、HF等危险污染物，居峰环境采用的是RTO蓄热式焚烧炉来处理半导体行业的废气：工业废气中主要含有酸性气体、碱性气体、有机废气和有毒气体四种，自身具有的溶解特性，半导体工业的气体虽然排放量大，但是气体的浓度低。

  RTO蓄热式氧化炉。其原理是在高温下将废气中的有机物（VOCs)氧化成对应的二氧化碳和水，从而净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，三室RTO废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

- 新材料半导体废气处理设备特点 -

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  1、采用预热和蓄热交替切换技术，使之具有较高的换热效率，效率高达90-95％以上，节能性能显著。

  2、采用燃烧机供热，可实现大、小功率运行比例调节功能，并具有预清扫、歇火保护、超温报警及自动切断燃料供应功能；运行安全、可靠、高效、耐用。

   3、采用微机自动控制、多点温控，实现多种保护动作、运行安息检索、监控信息反馈，使系统安全、稳定、可靠地运行。

   4、阀门采用气动传动机构，与电动传动机动相比较阀门切换更灵敏、更迅速。

  5、通过焚烧系统处理后排放的气体中所含的浓度低：VOC＜120mg/Nm3、CO＜100mg/Nm3、NOx＜100mg/Nm3。

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